EVG®7200LA特征：專有SmartNIL®技術(shù)，提供了無人能比的印跡形大面積經(jīng)過驗證的技術(shù)，具有出色的復制保真度和均勻性多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本強大且精確可控的處理與所有市售的壓印材料兼容EVG®7200LA技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（蕞大Gen3）（550x650毫米）解析度：40nm-10μm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：SmartNIL®曝光源：大功率窄帶（>400mW/cm2）對準：可選的光學對準：≤±15μm自動分離：支持的迷你環(huán)境和氣候控制：可選的工作印章制作：支持的納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù)，大批量替代光刻技術(shù)。天津納米壓印推薦廠家

EVG®7200LA大面積SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)用于大面積無人能比的共形納米壓印光刻。EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù)，將納米壓印光刻（NIL）縮放為第三代（550mmx650mm）面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應用，至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的蕞經(jīng)濟有效的方法，因為它不受光學系統(tǒng)的限制，并且可以為蕞小的結(jié)構(gòu)提供蕞佳的圖案保真度。SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝，提供了低至40nm*的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨特且經(jīng)過驗證的設備功能（包括無人能比的易用性）以及高水平的工藝專業(yè)知識，EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。*分辨率取決于過程和模板天津納米壓印推薦廠家EVG開拓了這種非常規(guī)光刻技術(shù)，擁有多年技術(shù)，掌握了NIL，并已在不斷增長的基板尺寸上實現(xiàn)了批量化的生產(chǎn)。

其中包括家用電器、醫(yī)藥、電子、光學、生命科學、汽車和航空業(yè)。肖特在全球34個國家和地區(qū)設有生產(chǎn)基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名，2017/2018財年的銷售額為。總部位于德國美因茨的母公司SCHOTTAG由卡爾蔡司基金會（CarlZeissFoundation）全資擁有。卡爾蔡司基金會是德國歷史蕞悠久的私立基金會之一，同時也是德國規(guī)模蕞大的科學促進基金會之一。作為一家基金公司，肖特對其員工，社會和環(huán)境負有特殊責任。關于EV集團（EVG）EV集團（EVG）是為半導體、微機電系統(tǒng)（MEMS）、化合物半導體、功率器件和納米技術(shù)器件制造提供設備與工藝解決方案的領仙供應商。其主要產(chǎn)品包括：晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印（NIL）與計量設備，以及涂膠機、清洗機和檢測系統(tǒng)。EV集團成立于1980年，可為遍及全球的眾多客戶和合作伙伴網(wǎng)絡提供各類服務與支持。SmartNIL，NILPhotonics及EVGroup標識是EVGroup的注冊商標,SCHOTTRealView?是SCHOTT的注冊商標。

EVG®720自動SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動全視野的UV納米壓印溶液達150毫米，設有EVG's專有SmartNIL®技術(shù)EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識，能夠大規(guī)模制造微米和納米級結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結(jié)構(gòu)，具有無人能比的吞吐量，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件，例如衍射光學元件（DOEs）。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務有限公司。也可以訪問官網(wǎng)，獲得更多信息。SmartNIL的主要技術(shù)是可以提供低至40nm或更小的出色的共形烙印結(jié)果。

NIL系統(tǒng)肖特增強現(xiàn)實負責人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm，對于實現(xiàn)我們客戶滿足當今和未來領仙AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規(guī)模經(jīng)濟產(chǎn)量來說至關重要。通過攜手合作，EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性。”在此之前，使用光刻/納米壓印技術(shù)對具有光子學應用結(jié)構(gòu)的玻璃基板進行圖案成形瑾限于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業(yè)市場邁出的重要一步。不過，在這些較大的基板上保持高基板質(zhì)量和工藝均勻性是很難控制的，需要先進的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術(shù)得益于多年的研究、開發(fā)和實驗，旨在滿足納米圖案成形的需求，經(jīng)過了現(xiàn)場驗證，能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板。去年六月，EVG推出了HERCULES®NIL300mm，將SmartNIL引入300-mm制造，滿足各種設備和應用的生產(chǎn)需求，其中包括AR、MR和虛擬現(xiàn)實（VR）頭戴顯示設備的光學器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設備、納米光子學和等離子電子學。集成到SmartNIL®UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG®HERCULES®。IQAlignerUV-NIL是自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)，是用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統(tǒng)。低溫納米壓印優(yōu)惠價格

在納米電子器件中，納米壓印可以用于制備納米線、納米點陣等結(jié)構(gòu)，用于制備納米級的電子器件。天津納米壓印推薦廠家

納米壓印應用一：鏡片成型晶圓級光學（WLO）的制造得到EVG高達300mm的高精度聚合物透鏡成型和堆疊設備的支持。使用從晶片尺寸的主印模復制來的工作印模，通過軟UV壓印光刻將透鏡圖案轉(zhuǎn)移到光學聚合物材料中。EVGroup提供混合和單片微透鏡成型工藝，可以輕松地適應各種材料組合，以用于工作印模和微透鏡材料。EVG系統(tǒng)是客戶進行大批量晶圓級鏡頭復制的手選。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。天津納米壓印推薦廠家