光學薄膜指通過物理化學方法在光學器件表面沉積的膜系，利用光的干涉效應改變光學特性，實現(xiàn)增透、反射、分光等功能。其應用始于20世紀30年代，現(xiàn)***用于光學及光電子領域。按功能可分為增透膜、高反膜、濾光膜等類型，材料分為金屬膜（如鋁、銀、金）和非金屬膜兩類，金屬膜常用于反射鏡，非金屬膜因穩(wěn)定性高而應用更廣。光學薄膜通過控制膜層折射率與厚度實現(xiàn)光波干涉，單層膜可減少反射光，多層組合可擴展低反射率波帶。1961年，三層抗反射膜技術的提出***提升了寬波帶性能。制造技術包括熱電阻蒸鍍、電子束蒸發(fā)和濺射法，其中濺射法附著力比較好。隨著光電產業(yè)發(fā)展，光學薄膜在通訊、顯示、存儲等領域成為關鍵組件，如投影設備、光通訊濾波片等，其技術進步直接影響現(xiàn)代光學儀器的性能演進。特別在紫外區(qū)，一般電介質材料吸收都比較大的情況下,它的優(yōu)越性就更明顯了。通州區(qū)放心選光學膜廠家供應

帶通濾光片只允許光譜帶中的一段通過，而其他部分全部被濾掉,按照它們結構的不同可分為法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片。法布里－珀羅型濾光片的結構與法－珀標準具（見法布里－珀**涉儀）相同，因為由它獲得的透過光譜帶都比較窄，所以又叫窄帶干涉濾光片。這種濾光片的透過率對薄膜的損耗非常敏感，所以制備透過率很高、半寬度又很窄的濾光片是很困難的。多腔濾光片又叫矩形濾光片，它可以做窄帶帶通濾光片，又可以做寬帶帶通濾光片，制備波區(qū)較寬，透過率高，波紋小的多腔濾光片同樣是困難的如東挑選光學膜服務電話例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍地減小；

2.利用光波干涉原理，在鏡片的表面鍍上一層薄膜，厚度為1/4 波長的光學厚度，使光線不再只被玻璃—空氣界面反射，而是空氣—薄膜、薄膜—玻璃二個界面反射，因此產生干涉現(xiàn)象，可使反射光減少。若鍍二層的抗反射膜，使反射率更低，但是鍍一層或二層都有缺點：低反射率的波帶不移寬，不能在可見光范圍都達到低反射率。1961年Cox、Hass和 Thelen三位首先發(fā)表以1/4一1/2一1/4波長光學厚度作三層抗反射膜可以得到寬波帶低反射率的抗反射膜。多層抗反射膜除了寬波帶的，也可做到窄波帶的。也就是針對其一波長如氨氟雷射632.8nm波長，要求極高的透射，可使63Z.8nm這一波長透射率高達99.8%以上，用之於雷射儀器。但若需要對某一波長的光線有看極高的反射率需要用高低不同折射系數(shù)的材料反覆蒸鍍數(shù)十層才可達到此效果

原則上說，全電介質反射膜的反射率可以無限接近于1，但是薄膜的散射、吸收損耗限制了薄膜反射率的提高。迄今為止，質量激光反射膜的反射率雖然已超過99.9%，但有一些工作還要求它的反射率繼續(xù)提高。應用于強激光系統(tǒng)的反射膜，則更強調它的抗激光強度，圍繞提高這類薄膜的抗激光強度所開展的工作，使這類薄膜的研究更加深入。干涉濾光片是種類**多、結構復雜的一類光學薄膜。它的主要功能是分割光譜帶。最常見的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。截止濾光片可以把所考慮的光譜區(qū)分成兩部分，一部分不允許光通過（稱為截止區(qū)），另一部分要求光充分通過（稱為帶通區(qū)）。按照通帶在光譜區(qū)的位置又可分為長波通和短波通二種，它們**簡單的結構分別為，這里H、L分別表示厚的高、低折射率層，m為周期數(shù)。具有以上結構的膜系稱為對稱周期膜系。如果所考慮的光譜區(qū)很寬或通帶透過率的波紋要求很高，膜系結構會更加復雜。常用的是前4種。光學反射膜用以增加鏡面反射率，常用來反光、折光和共振腔器件。

a.金屬膜：主要是作為反射鏡和半反射鏡用。在各種平面或曲面反射鏡，或各式稜鏡等，都可依所需鍍上Al、Ag、Au、Cu等 各種不同的材料。不同的材料在光譜上有不同的特性。AI的反射率在紫外光、可見光、近紅外光有良好的反射率，是鍍反射鏡**常使用的材料之一。Ag膜在可見光和近紅外光部份的反射率比AI膜更高，但因其易氧化而失去光澤，只能短暫的維持高反射率，所以只能用在內層反射用，或另加保護膜。b.非金屬膜：鋁是從紫外區(qū)到紅外區(qū)都具有很高反射率的***材料，同時鋁膜表面在大氣中能生成一層薄的氧化鋁(Al2O3)，所以膜層比較牢固、穩(wěn)定。簡單的光學薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質薄層。南通挑選光學膜按需定制

為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層，組成金屬電介質反射膜。通州區(qū)放心選光學膜廠家供應

01:21長步道工業(yè)光學|鏡頭鏡片的鍍膜工藝居然需要納米級的工藝光學零件表面鍍膜后，光在膜層層上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜層的折射率和厚度，可以得到不同的強度分布，這是干涉鍍膜的基本原理。光學薄膜在高真空度的鍍膜腔中實現(xiàn)。常規(guī)鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃)；而較先進的技術，如離子輔助沉積(IAD)可在室溫下進行。IAD工藝不但生產比常規(guī)鍍膜工藝具有更好物理特性的薄膜，而且可以應用于塑料制成的基底。圖19.11展示一個操作者正在光學鍍膜機前。抽真空主系統(tǒng)由兩個低溫泵組成。電子束蒸發(fā)、IAD沉積、光控、加熱器控制、抽真空控制和自動過程控制的控制模塊都在鍍膜機的前面板上。通州區(qū)放心選光學膜廠家供應

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