光斑分析儀通過光學傳感器將光斑能量分布轉化為電信號，結合算法分析實現(xiàn)光束質量評估。Dimension-Labs 產品采用雙技術路線：掃描狹縫式通過 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描，實現(xiàn) 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測量；相機式則利用面陣傳感器實時成像，支持 200-2600nm 全光譜覆蓋。全系標配 M2 因子測試模塊，結合 BeamHere 軟件，可自動計算發(fā)散角、橢圓率等參數(shù)，并生成符合 ISO 11146 標準的測試報告。 產品優(yōu)勢： 滿足測試需求的全系列產品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設計的分析軟件 軟件真正做到交互友好，簡單易用，一鍵輸出測試報告。近場光斑測試方案，推進半導體，硅光行業(yè)優(yōu)化升級。多光斑光斑分析儀原廠

全系列產品矩陣與智能分析系統(tǒng) Dimension-Labs BeamHere 系列產品通過全光譜覆蓋與模塊化設計，構建起完整的光束質量測量生態(tài)系統(tǒng)： 1. 全場景產品體系 光譜覆蓋：190-2700nm 超寬響應范圍，滿足紫外到遠紅外波段的測試需求 技術方案： 掃描狹縫式：支持 2.5μm-10mm 光斑檢測，0.1μm 超高分辨率，可測近 10W 高功率激光，適合半導體加工、高功率焊接等場景 相機式：400-1700nm 實時成像，5.5μm 像元精度，標配 6 片濾光片轉輪實現(xiàn) 1μW-1W 寬功率測量，擅長復雜光斑分析與脈沖激光檢測 結構創(chuàng)新：掃描狹縫式采用 ±90° 轉筒調節(jié)與可調光闌設計，相機式支持濾光片轉輪與相機分離，拓展科研成像功能 2. M2 因子測試模塊 兼容全系產品，基于 ISO 11146 標準算法實現(xiàn)光束質量參數(shù)測量 可獲取： 光束發(fā)散角（mrad） 束腰位置（mm） M2 因子（無量綱） 瑞利長度（mm） 支持光束傳播方向上的全鏈路分析，為激光系統(tǒng)設計提供數(shù)據(jù)大功率光斑分析儀怎么樣無干涉條紋的光斑質量分析儀。

維度光電國產光束質量分析解決方案破局之路 國內激光光束質量分析市場長期被歐美品牌壟斷，存在三大痛點：產品型號單一（無法兼顧亞微米光斑與高功率檢測）、定制周期漫長（3-6 個月周期）、服務響應滯后（返廠維修影響生產 35 天 / 次）。 全場景產品矩陣 狹縫式：0.1μm 分辨率，直接測 10W 激光，支持 ±90° 任意角度掃描，滿足半導體加工等亞微米級需求 相機式：5.5μm 像元精度，6 片濾光片轉輪實現(xiàn) 1μW-1W 寬功率檢測，擅長復雜光斑分析 定制化服務：12 項定制選項（波長擴展、自動化接口等），短交付周期 5 天 未來將聚焦多模態(tài)光束分析與智能化診斷，為智能制造、醫(yī)療科技等提供技術支撐。

維度光電 BeamHere 系列為激光光束質量檢測提供高性價比解決方案： 掃描狹縫式：國內刀口 / 狹縫雙模式切換，覆蓋 190-2700nm 光譜，可測 2.5μm-10mm 光束，0.1μm 分辨率實現(xiàn)亞微米級光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機制支持 10W 級高功率直接測量，無需外置衰減片。 相機式：400-1700nm 寬譜響應，支持實時 2D/3D 成像與非高斯光束測量。六濾光片轉輪設計擴展功率量程，可拆卸結構兼顧工業(yè)檢測與科研成像需求。 M2 測試模塊：通過 ISO 11146 標準算法，測量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數(shù)，適配全系產品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面，支持一鍵生成標準化報告，滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。系統(tǒng)以模塊化設計實現(xiàn)高精度檢測，助力客戶提升效率與產品質量。Z-block 器件生產檢驗中的光斑分析儀質量檢測。

Dimension-Labs 維度光電相機式與狹縫式光斑分析儀的選擇需基于應用場景的光斑尺寸、功率等級、脈沖特性及形態(tài)復雜度。相機式基于面陣傳感器成像，可測大10mm 光斑（受限于 sensor 尺寸），小光斑為 55μm（10 倍 5.5μm 像元），結合 6 片衰減片（BeamHere 標配）實現(xiàn) 1W 功率測量，適合大光斑、脈沖激光（觸發(fā)模式同步捕獲單脈沖）及非高斯光束（如貝塞爾光束）檢測，通過面陣實時反饋保留復雜形態(tài)細節(jié)。狹縫式采用正交狹縫掃描，刀口模式可測小 2.5μm 光斑，創(chuàng)新狹縫物理衰減機制允許直接測量近 10W 高功率激光，適合亞微米光斑、高功率及高斯光斑檢測，但需嚴格匹配掃描頻率與激光重頻以避免脈沖丟失，且復雜光斑會因狹縫累加導致能量分布失真。維度光電 BeamHere 系列提供雙技術方案，用戶可根據(jù)光斑尺寸（亞微米選狹縫，大光斑選相機）、功率等級（高功率選狹縫，微瓦級選相機）及光斑類型（復雜形態(tài)選相機，高斯光斑選狹縫）靈活選擇，實現(xiàn)光斑檢測全場景覆蓋。光斑分析儀如何測量 M2 因子？國產化光斑分析儀費用是多少

工業(yè)光斑檢測儀如何選？維度光電；多光斑光斑分析儀原廠

維度光電光束質量測量解決方案應用場景 Dimension-Labs 方案覆蓋工業(yè)、醫(yī)療、科研等多領域： 工業(yè)制造：高功率激光切割 / 焊接實時監(jiān)測，優(yōu)化熱影響區(qū)控制；亞微米光斑檢測保障半導體晶圓劃片良率。 醫(yī)療健康：飛秒激光手術光斑能量分析，提升角膜切削精度；M2 因子模塊校準醫(yī)用激光設備光束質量。 ：解析超快激光傳輸特性，支持新型激光器；高精度參數(shù)測量加速非線性光學實驗進展。 光通信：光纖端面光斑形態(tài)優(yōu)化，保障光器件耦合效率；激光器性能一致性檢測。 新興領域：Bessel 光束能量分布分析助力光鑷系統(tǒng)精度提升；激光育種參數(shù)優(yōu)化推動作物改良。 優(yōu)勢： 全場景適配：狹縫式（高功率 / 亞微米）與相機式（脈沖 / 復雜光束）組合覆蓋多樣化需求。 智能分析：AI 算法自動識別光斑異常，生成標準化報告。 模塊化擴展：支持 M2 因子測試、寬光譜適配等功能升級。多光斑光斑分析儀原廠