3、按器件與電路板互連方式:引腳插入型(PTH)和表面貼裝型(SMT)4、按引腳分布形態:單邊引腳、雙邊引腳、四邊引腳和底部引腳；SMT器件有L型、J型、I型的金屬引腳。SIP :單列式封裝 SQP:小型化封裝 MCP:金屬罐式封裝 DIP:雙列式封裝 CSP:芯片尺寸封裝QFP: 四邊扁平封裝 PGA:點陣式封裝 BGA:球柵陣列式封裝LCCC: 無引線陶瓷芯片載體芯片是一種集成電路，由大量的晶體管構成。不同的芯片有不同的集成規模，大到幾億；小到幾十、幾百個晶體管。晶體管有兩種狀態，開和關，用1、0來表示。多個晶體管產生的多個1與0的信號，這些信號被設定成特定的功能（即指令和數據），來表示或處理字母、數字、顏色和圖形等。芯片加電以后，首先產生一個啟動指令，來啟動芯片，以后就不斷接受新指令和數據，來完成功能。光刻工藝的基本流程如圖1 [2]所示。首先是在晶圓（或襯底）表面涂上一層光刻膠并烘干。青浦區個性化電阻芯片性價比

晶圓光刻顯影、蝕刻光刻工藝的基本流程如圖1 [2]所示。首先是在晶圓（或襯底）表面涂上一層光刻膠并烘干。烘干后的晶圓被傳送到光刻機里面。光線透過一個掩模把掩模上的圖形投影在晶圓表面的光刻膠上，實現曝光，激發光化學反應。對曝光后的晶圓進行第二次烘烤，即所謂的曝光后烘烤，后烘烤使得光化學反應更充分。***，把顯影液噴灑到晶圓表面的光刻膠上，對曝光圖形顯影。顯影后，掩模上的圖形就被存留在了光刻膠上。涂膠、烘烤和顯影都是在勻膠顯影機中完成的，曝光是在光刻機中完成的。勻膠顯影機和光刻機一般都是聯機作業的，晶圓通過機械手在各單元和機器之間傳送。整個曝光顯影系統是封閉的，晶圓不直接暴露在周圍環境中，以減少環境中有害成分對光刻膠和光化學反應的影響 [2]。青浦區個性化電阻芯片性價比具體工藝是從硅片上暴露的區域開始，放入化學離子混合液中。

靜態電流診斷技術的**是將待測電路處于穩定運行狀態下的電源電流與預先設定的閾值進行比較，來判定待測電路是否存在故障。可見，閾值的選取便是決定此方法檢測率高低的關鍵。早期的靜態電流診斷技術采用的固定閾值，然而固定的閾值并不能適應集成電路芯片向深亞微米的發展。于是，后人在靜態電流檢測方法上進行了不斷的改進，相繼提出了差分靜態電流檢測技術，電流比率診斷方法，基于聚類技術的靜態電流檢測技術等。動態電流診斷技術于 90 年代問世。動態電流能夠直接反應電路在進行狀態轉換時，其內部電壓的切換頻繁程度。基于動態電流的檢測技術可以檢測出之前兩類方法所不能檢測出的故障，進一步擴大故障覆蓋范圍。隨著智能化技術的發展與逐漸成熟，集成電路芯片故障檢測技術也朝著智能化的趨勢前進 [2]。

C=0℃至60℃（商業級）；I=-20℃至85℃（工業級）；E=-40℃至85℃（擴展工業級）；A=-40℃至82℃（航空級）；M=-55℃至125℃（**級）封裝類型：A—SSOP；B—CERQUAD；C-TO-200，TQFP﹔D—陶瓷銅頂；E—QSOP；F—陶瓷SOP；H—SBGAJ-陶瓷DIP；K—TO-3；L—LCC，M—MQFP；N——窄DIP﹔N—DIP;；Q—PLCC；R一窄陶瓷DIP （300mil）；S—TO-52，T—TO5，TO-99，TO-100﹔U—TSSOP，uMAX，SOT；W—寬體小外型(300mil)﹔ X—SC-60(3P，5P，6P)﹔ Y―窄體銅頂；Z—TO-92，MQUAD；D—裸片；/PR-增強型塑封﹔/W-晶圓。電阻結構，電阻結構的長寬比，結合表面電阻系數，決定電阻。

74系列是標準的TTL邏輯器件的通用名稱，例如74LS00、74LS02等等，單從74來看看不出是什么公司的產品。不同公司會在74前面加前綴，例如SN74LS00等。相關拓展一個完整的IC型號一般都至少必須包含以下四個部分:前綴（首標）-----很多可以推測是哪家公司產品。器件名稱----一般可以推斷產品的功能（memory可以得知其容量）。溫度等級-----區分商業級，工業級，軍級等。一般情況下，C表示民用級，Ⅰ表示工業級，E表示擴展工業級，A表示航空級，M表示**級。這些數字IC，以微處理器、數字信號處理器和微控制器，工作中使用二進制，處理1和0信號。青浦區優勢電阻芯片私人定做

這些年來，集成電路持續向更小的外型尺寸發展，使得每個芯片可以封裝更多的電路。青浦區個性化電阻芯片性價比

1998年，華晶與上華合作生產MOS 圓片合約簽定，開始了中國大陸的Foundry時代；由北京有色金屬研究總院半導體材料國家工程研究中心承擔的我國***條8英寸硅單晶拋光生產線建成投產。1999年，上海華虹NEC的***條8英寸生產線正式建成投產。 [5]2000-2011年 發展加速期2000年，中芯國際在上海成立，***18號文件加大對集成電路的扶持力度。2002年，**款批量投產的通用CPU芯片“龍芯一號”研制成功。2003年，臺積電（上海）有限公司落戶上海。2004年，中國大陸***條12英寸線在北京投入生產。青浦區個性化電阻芯片性價比

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