空間電荷區：擴散到P區的自由電子與空穴復合，而擴散到N區的空穴與自由電子復合，所以在交界面附近多子的濃度下降，P區出現負離子區，N區出現正離子區，它們是不能移動，稱為空間電荷區。電場形成：空間電荷區形成內電場。空間電荷加寬，內電場增強，其方向由N區指向P區，阻止擴散運動的進行。漂移運動：在電場力作用下，載流子的運動稱漂移運動。PN結的形成過程：將P型半導體與N型半導體制作在同一塊硅片上，在無外電場和其它激發作用下，參與擴散運動的多子數目等于參與漂移運動的少子數目，從而達到動態平衡，形成PN結。電位差：空間電荷區具有一定的寬度，形成電位差Uho，電流為零。耗盡層：絕大部分空間電荷區內自由電子和空穴的數目都非常少，在分析PN結時常忽略載流子的作用，而只考慮離子區的電荷，稱耗盡層。在半導體器件的廣闊天地里，無錫微原電子科技正書寫著屬于自己的傳奇！應用半導體器件構件

元素半導體。元素半導體是指單一元素構成的半導體，其中對硅、硒的研究比較早。它是由相同元素組成的具有半導體特性的固體材料，容易受到微量雜質和外界條件的影響而發生變化。目前，只有硅、鍺性能好，運用的比較廣，硒在電子照明和光電領域中應用。硅在半導體工業中運用的多，這主要受到二氧化硅的影響，能夠在器件制作上形成掩膜，能夠提高半導體器件的穩定性，利于自動化工業生產。 

無機合成物半導體。無機合成物主要是通過單一元素構成半導體材料，當然也有多種元素構成的半導體材料，主要的半導體性質有I族與V、VI、VII族；II族與IV、V、VI、VII族；III族與V、VI族；IV族與IV、VI族;V族與VI族；VI族與VI族的結合化合物，但受到元素的特性和制作方式的影響，不是所有的化合物都能夠符合半導體材料的要求。這一半導體主要運用到高速器件中，InP制造的晶體管的速度比其他材料都高，主要運用到光電集成電路、抗核輻射器件中。對于導電率高的材料，主要用于LED等方面。 嘉定區自動化半導體器件無錫微原電子科技，半導體器件行業的佼佼者，品質值得信賴！

     場效應晶體管場效應晶體管依靠一塊薄層半導體受橫向電場影響而改變其電阻（簡稱場效應），使具有放大信號的功能。這薄層半導體的兩端接兩個電極稱為源和漏。

     控制橫向電場的電極稱為柵。根據柵的結構,場效應晶體管可以分為三種：

①結型場效應管(用PN結構成柵極)；

②MOS場效應管（用金屬-氧化物－半導體構成柵極,見金屬－絕緣體－半導體系統）；

③MES場效應管（用金屬與半導體接觸構成柵極）;其中MOS場效應管使用*****。尤其在大規模集成電路的發展中,MOS大規模集成電路具有特殊的優越性。MES場效應管一般用在GaAs微波晶體管上。在MOS器件的基礎上,又發展出一種電荷耦合器件 (CCD)，它是以半導體表面附近存儲的電荷作為信息，控制表面附近的勢阱使電荷在表面附近向某一方向轉移。這種器件通常可以用作延遲線和存儲器 等；配上光電二極管列陣，可用作攝像管。

設備按照終端數量可以分為二端設備、三端設備和多端設備。目前***使用的固態器件包括晶體管、場效應晶體管(FET)、晶閘管(SCR)、二極管（整流器）和發光二極管(LED)。半導體器件可以用作單獨的組件，也可以用作集成多個器件的集成電路，這些器件可以在單個基板上以相同的制造工藝制造。

三端設備：

晶體管結型晶體管達林頓晶體管場效應晶體管 (FET)絕緣柵雙極晶體管 (IGBT)單結晶體管光電晶體管靜態感應晶體管（SI 晶體管）晶閘管（SCR）門極可關斷晶閘管（GTO）雙向可控硅開關集成門極換流晶閘管 (IGCT)光觸發晶閘管（LTT）靜態感應晶閘管（SI晶閘管）。

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本征半導體的電流：電子電流+空穴電流。自由電子和空穴所帶電荷極性不同，它們運動方向相反。載流子：運載電荷的粒子稱為載流子。導體電的特點：導體導電只有一種載流子，即自由電子導電。本征半導體電的特點：本征半導體有兩種載流子，即自由電子和空穴均參與導電。本征激發：半導體在熱激發下產生自由電子和空穴的現象稱為本征激發。復合：自由電子在運動的過程中如果與空穴相遇就會填補空穴，使兩者同時消失，這種現象稱為復合。動態平衡：在一定的溫度下，本征激發所產生的自由電子與空穴對，與復合的自由電子與空穴對數目相等，達到動態平衡。走進無錫微原電子科技，領略半導體器件行業的獨特風采！有什么半導體器件生產過程

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         載流子的濃度與溫度的關系：溫度一定，本征半導體中載流子的濃度是一定的，并且自由電子與空穴的濃度相等。當溫度升高時，熱運動加劇，掙脫共價鍵束縛的自由電子增多，空穴也隨之增多（即載流子的濃度升高），導電性能增強；當溫度降低，則載流子的濃度降低，導電性能變差。結論：本征半導體的導電性能與溫度有關。半導體材料性能對溫度的敏感性，可制作熱敏和光敏器件，又造成半導體器件溫度穩定性差的原因。雜質半導體：通過擴散工藝，在本征半導體中摻入少量合適的雜質元素，可得到雜質半導體。N型半導體：在純凈的硅晶體中摻入五價元素（如磷），使之取代晶格中硅原子的位置，就形成了N型半導體。多數載流子：N型半導體中，自由電子的濃度大于空穴的濃度，稱為多數載流子，簡稱多子。少數載流子：N型半導體中，空穴為少數載流子，簡稱少子。施子原子：雜質原子可以提供電子，稱施子原子。應用半導體器件構件

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