根據電磁學的基本理論里,提到對于不同介質的透射與反射。若是由介質 n1垂直入射至 n2反射率=[ (n2-n1) / (n1+n2) ]^2穿透率=4n1n2 / (n1+n2)^2范例講解:若是空氣的折射率是 1.0 ,鍍膜的折射率nc (例如:1.5) ,玻璃的折射率n (例如:1.8)(1)由空氣直接進入玻璃穿透率= 4×1.0×1.8 / ( 1+1.8 )2=91.84%(2)由空氣進入鍍膜后再進入玻璃穿透率=[ 4×1.0×1.5 / ( 1+1.5 )2] × [ 4×1.5×1.8 / ( 1.5+1.8 )2]=95.2%可見有鍍膜的玻璃會增加透光度。此外由此公式,我們可以計算光線穿透鏡片的兩面,發現即使一片完美的透鏡(折射率1.8),其透光度約為85%左右。若加上一層鍍膜(折射率1.5),則透光度可達91%??梢姽鈱W鍍膜的重要性。光學濾光膜用來進行光譜或其他光性分割,其種類多,結構復雜。海門區挑選光學膜廠家直銷

金屬反射膜的優點是制備工藝簡單,工作的波長范圍寬;缺點是光損大,反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高,可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層,組成金屬電介質反射膜。需要指出的是,金屬電介質射膜增加了某一波長(或者某一波區)的反射率,卻破壞了金屬膜中性反射的特點。全電介質反射膜是建立在多光束干涉基礎上的。與增透膜相反,在光學表面上鍍一層折射率高于基體材料的薄膜,就可以增加光學表面的反射率。**簡單的多層反射是由高、低折射率的二種材料交替蒸鍍而成的,每層膜的光學厚度為某一波長的四分一。在這種條件下,參加疊加的各界面上的反射光矢量,振動方向相同。合成振幅隨著薄膜層數的增加而增加。如皋品牌光學膜均價常見的干涉濾光片是截止濾光片和帶通濾光片。

在紫外區常用的金屬薄膜材料是鋁,在可見光區常用鋁和銀,在紅外區常用金、銀和銅,此外,鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能,所以必須用電介質膜加以保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優點是制備工藝簡單,工作的波長范圍寬;缺點是光損耗大,反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高,可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層,組成金屬電介質反射膜。
圖19.12示出裝配在高真空鍍膜機基板上的硬件布局。兩個電子槍源位于基板兩邊,周圍是環形罩并被擋板覆蓋。離子源位于中間,光控窗口在離子源的前方。圖19.13示出真空室的頂部,真空室里有含6個圓形夾具的行星系統。夾具用于放置被鍍膜的光學元件。使用行星系統是保證被蒸發材料在夾具區域內均勻分布的優先方法。夾具繞公共軸旋轉,同時繞其自身軸旋轉。光控和晶控處于行星驅動機械裝置的中部,驅動軸遮擋晶控。背面的大開口通向附加的高真空泵?;准訜嵯到y由4個石英燈組成,真空室的兩邊各兩個。是種類多、結構復雜的一類光學薄膜。

它可分為增透膜、高反膜、濾光膜、分光膜、偏振與消偏振膜等。光學薄膜的應用始于20世紀30年代。現代,光學薄膜已***用于光學和光電子技術領域,制造各種光學儀器。表面光滑,膜層之間的界面呈幾何分割;膜層的折射率在界面上可以發生躍變,但在膜層內是連續的;可以是透明介質,也可以是吸收介質;可以是法向均勻的,也可以是法向不均勻的。1.利用光線的干涉效應,當光線入射於不同折射系數物質所鍍成的薄膜,產生某種特殊光學特性。分類:光學薄膜就其所鍍材料之不同,大體可分為金屬膜和非金屬膜。偏振分光膜是利用光斜入射時薄膜的偏振效應制成的。南通品牌光學膜廠家直銷
光強分光膜是按照一定的光強比把光束分成兩部分的薄膜,這種薄膜有時考慮某一波長,叫做單色分光膜;海門區挑選光學膜廠家直銷
誘增透濾光片是在金屬膜兩邊匹配以適當的電介質膜系,以增加勢透過率,減少反射,使通帶透過率增加的一類濾光片。雖然它的通帶性能不如全電介質法-珀濾光片,卻有著很寬的截止特性,所以還是有很大的應用價值。特別在紫外區,一般電介質材料吸收都比較大的情況下,它的優越性就更明顯了。圖3的a、b、c分別給出法布里-珀羅型濾光片、多腔濾光片和誘增透濾光片的典型曲線。分光膜根據一定的要求和一定的方式把光束分成兩部分的薄膜。分光膜主要包括波長分光膜、光強分光膜和偏振分光膜等幾類。海門區挑選光學膜廠家直銷
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