面向磁傳感器制造，中清航科開發超導磁懸浮切割臺。晶圓在強磁場（0.5T）下懸浮，消除機械接觸應力，切割后磁疇結構畸變率<0.3%，靈敏度波動控制在±0.5%。中清航科電化學回收裝置從切割廢水中提取金/銅/錫等金屬，純度達99.95%。單條產線年回收貴金屬價值超$80萬，回收水符合SEMIF78標準，實現零廢液排放。針對HJT電池脆弱電極層，中清航科采用熱激光控制技術（LCT）。紅外激光精確加熱切割區至200℃，降低材料脆性，電池效率損失<0.1%，碎片率控制在0.2%以內。中清航科多軸聯動切割頭，適應曲面晶圓±15°傾角加工。連云港半導體晶圓切割寬度

半導體晶圓的制造過程制造過程始于一個大型單晶硅的生產（晶錠），制造方法包括直拉法與區熔法，這兩種方法都涉及從高純度硅熔池中控制硅晶體的生長。一旦晶錠生產出來，就需要用精密金剛石鋸將其切成薄片狀晶圓。隨后晶圓被拋光以達到鏡面般的光滑，確保在后續制造工藝中表面無缺陷。接著，晶圓會經歷一系列復雜的制造步驟，包括光刻、蝕刻和摻雜，這些步驟在晶圓表面上形成晶體管、電阻、電容和互連的復雜圖案。這些圖案在多個層上形成，每一層在電子器件中都有特定的功能。制造過程完成后，晶圓經過晶圓切割分離出單個芯片，芯片會被封裝并測試，集成到電子器件和系統中。浙江砷化鎵晶圓切割刀片中清航科晶圓切割代工獲ISO 9001認證，月產能達50萬片。

隨著Chiplet技術的興起，晶圓切割需要更高的位置精度以保證后續的異構集成。中清航科開發的納米級定位切割系統，采用氣浮導軌與光柵尺閉環控制，定位精度達到±0.1μm，配合雙頻激光干涉儀進行實時校準，確保切割道位置與設計圖紙的偏差不超過0.5μm，為Chiplet的高精度互聯奠定基礎。中清航科深諳半導體設備的定制化需求，可為客戶提供從工藝驗證到設備交付的全流程服務。其技術團隊會深入了解客戶的晶圓規格、材料特性與產能要求，定制專屬切割方案，如針對特殊異形Die的切割路徑優化、大尺寸晶圓的分片切割策略等，已成功為多家頭部半導體企業完成定制化項目交付。

中清航科動態線寬控制系統利用實時共焦傳感器監測切割槽形貌，通過AI算法自動補償刀具磨損導致的線寬偏差（精度±0.8μm）。該技術使12英寸晶圓切割道均勻性提升至97%，芯片產出量增加5.3%，年節省材料成本超$150萬。針對消費電子量產需求，中清航科開發多光束并行切割引擎。6路紫外激光（波長355nm）通過衍射光學元件分束，同步切割效率提升400%，UPH突破300片（12英寸），單顆芯片加工成本下降至$0.003。先進制程芯片的低k介質層易在切割中剝落。中清航科采用局部真空吸附+低溫氮氣幕技術，在切割區形成-30℃微環境，結合納米涂層刀具，介質層破損率降低至0.01ppm，通過3nm芯片可靠性驗證。晶圓切割MES系統中清航科定制，實時追蹤每片切割工藝參數。

中清航科注重與科研機構的合作創新，與國內多所高校共建半導體切割技術聯合實驗室。圍繞晶圓切割的前沿技術開展研究，如原子層切割、超高頻激光切割等，已申請發明專利50余項，其中“一種基于飛秒激光的晶圓超精細切割方法”獲得國家發明專利金獎，推動行業技術進步。晶圓切割設備的軟件系統是其智能化的中心，中清航科自主開發了切割控制軟件，具備友好的人機交互界面與強大的功能。支持多種格式的晶圓版圖文件導入，可自動生成切割路徑，同時提供離線編程功能，可在不影響設備運行的情況下完成新程序的編制與模擬，提高設備利用率。晶圓切割培訓課程中清航科每月開放，已認證工程師超800名。鹽城芯片晶圓切割

切割粉塵回收模塊中清航科集成，重金屬污染減排90%以上。連云港半導體晶圓切割寬度

對于高價值的晶圓產品，切割過程中的追溯性尤為重要。中清航科的切割設備內置二維碼追溯系統，每片晶圓進入設備后都會生成單獨的二維碼標識，全程記錄切割時間、操作人員、工藝參數、檢測結果等信息，可通過掃碼快速查詢全流程數據，為質量追溯與問題分析提供完整依據。在晶圓切割的邊緣處理方面，中清航科突破傳統工藝限制，開發出激光倒角技術。可在切割的同時完成晶圓邊緣的圓弧處理，倒角半徑可精確控制在5-50μm范圍內，有效減少邊緣應力集中，提高晶圓的機械強度。該技術特別適用于需要多次搬運與清洗的晶圓加工流程。連云港半導體晶圓切割寬度