流片周期的長短直接影響產品的市場競爭力，中清航科通過流程優化與資源調度，打造出行業的快速流片能力。針對成熟制程，建立 “綠色通道” 服務，將傳統 10 - 12 周的流片周期縮短至 6 - 8 周，其中掩膜版制作環節通過與掩膜廠的聯合加急，實現 72 小時快速交付。在晶圓生產階段，利用多晶圓廠資源池，根據客戶需求靈活調配產能，當主供晶圓廠產能緊張時，48 小時內可切換至備用晶圓廠，確保流片計劃不受影響。為讓客戶實時掌握進度，開發了流片進度可視化平臺，通過甘特圖直觀展示各環節進度，關鍵節點完成后自動推送通知，同時支持客戶在線查詢晶圓測試數據與良率報告。去年某客戶的 5G 芯片因市場需求緊急，中清航科啟動加急流片服務，將原本 8 周的周期壓縮至 5 周，幫助客戶提前搶占市場。中清航科失效分析報告，含FIB/SEM/TEM三級診斷結論。MPW流片代理廠家

中清航科的流片代理服務注重技術創新，每年投入營收的 15% 用于研發。其研發團隊專注于流片工藝優化、數字化服務平臺開發、新材料流片技術研究等領域，已申請發明專利 80 余項，其中 “一種基于人工智能的流片參數優化方法” 獲得國家發明專利獎。通過持續創新，不斷提升服務質量與技術水平，例如較新研發的流片良率預測模型，預測準確率達到 92%，能幫助客戶提前識別潛在的良率風險。對于需要進行軍民融合流片的客戶，中清航科提供符合標準的流片代理服務。其建立了流片流程，嚴格遵守國家保密規定，與具備生產資質的晶圓廠合作，確保流片過程符合 GJB9001C 質量管理體系要求。在流片過程中，實施更嚴格的質量控制與追溯管理，每道工序都有詳細的記錄與簽字確認，滿足可追溯性要求。已成功代理多個芯片的流片項目，涵蓋雷達、通信、導航等領域，產品通過了嚴格的鑒定。中芯國際 40nm流片代理供應商家中清航科封裝測試聯動服務，流片到封裝周期縮短至15天。

全球晶圓產能緊張的背景下，其流片周期的穩定性至關重要。中清航科建立了多晶圓廠備份機制，為每個工藝節點匹配 2-3 家備選晶圓廠，當主供廠商出現產能波動時，可在 48 小時內啟動切換流程，確保流片計劃不受影響。去年某車規芯片客戶遭遇主晶圓廠火災事故，中清航科只用 3 天就完成產能轉移，將交付延期控制在 1 周內，較大限度降低客戶損失。流片后的測試與分析是驗證設計有效性的關鍵環節，中清航科配備了完整的芯片測試實驗室，擁有 ATE 測試系統、探針臺等先進設備，可提供 CP（晶圓級測試）與 FT（成品測試）服務。測試數據通過自主開發的分析平臺進行失效模式分類，生成詳細的良率分析報告，幫助客戶精確定位設計缺陷。其與第三方失效分析實驗室的合作網絡，還可提供切片分析、SEM 成像等深度分析服務。

流片過程的復雜性往往讓設計企業望而生畏，中清航科通過標準化流程再造，將流片環節拆解為 12 個關鍵節點，每個節點都配備專屬技術人員負責。在項目啟動階段，其 DFM 工程師會對客戶的 GDSII 文件進行多方面審查，重點檢查光刻層對齊、金屬線寬等可制造性問題，平均能提前發現 80% 的潛在生產隱患。進入晶圓廠生產階段，項目經理會建立每日進度通報機制，通過可視化平臺實時展示晶圓生產狀態，包括清洗、光刻、蝕刻等各工序的完成情況。針對突發狀況，中清航科建立了三級應急響應體系，普通問題 4 小時內給出解決方案，重大問題 24 小時內協調晶圓廠技術團隊共同處理，去年流片項目的按時交付率達到 98.7%，遠超行業平均水平。中清航科支持10片工程批流片，快速驗證設計修正。

未來流片技術將向更先進制程、更高集成度發展，中清航科持續投入研發，構建前瞻性的流片代理能力。在 3D IC 領域，與晶圓廠合作開發 TSV 與混合鍵合流片方案，支持芯片堆疊的高精度對準，已成功代理多個 3D 堆疊芯片的流片項目，鍵合良率達到 99% 以上。針對量子芯片等前沿領域，組建專項技術團隊，研究適合量子比特的特殊流片工藝，與科研機構合作推進量子芯片的流片驗證。在智能制造方面，開發 AI 驅動的流片參數優化系統，通過機器學習預測工藝參數對芯片性能的影響，實現流片參數的自動優化，目前該系統在成熟制程的測試中，可使良率提升 8% - 12%。通過持續創新，中清航科致力于為客戶提供面向未來的流片代理服務，助力半導體產業的技術突破與創新發展。中清航科多項目晶圓服務，支持5家設計公司共享光罩。中芯國際 40nm流片代理供應商家

流片合同法律審查中清航科服務，規避13項條款風險。MPW流片代理廠家

流片后的數據分析與反饋對產品優化至關重要，中清航科為此開發了專業的流片數據分析平臺。該平臺可對接晶圓廠的測試數據系統，自動導入 CP 測試、FT 測試的原始數據，通過數據挖掘算法進行多維度分析，包括良率分布、參數分布、失效模式等，生成直觀的可視化報告。針對低良率項目，技術團隊會進行根因分析，區分設計問題與工藝問題，提供具體的優化建議，如調整光刻參數、優化版圖設計等。平臺還支持多批次數據對比，幫助客戶跟蹤良率變化趨勢，識別持續改進點。某客戶的射頻芯片流片后良率只為 65%，中清航科通過數據分析發現是金屬層刻蝕不均導致，提出優化刻蝕時間與功率的建議，二次流片良率提升至 89%。MPW流片代理廠家